光刻手册：机器、市场与下一代半导体初创企业
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光刻技术是现代芯片制造的核心，ASML主导市场并面临地缘政治挑战，新兴初创企业正在崛起。
入选理由：ASML的EUV光刻机NXE:3600D可打印13纳米特征，成本约3.8亿美元。
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概念
什么是 半导体设备？
也叫：semiconductor equipment
用于制造芯片的专用设备，包括光刻机等。
为什么现在值得关注？
最近变化
2026-05-06 · ASML的EUV光刻机NXE:3600D可打印13纳米特征，成本约3.8亿美元。
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