光刻手册：机器、市场与下一代半导体初创企业
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光刻技术是现代芯片制造的核心，ASML主导市场并面临地缘政治挑战，新兴初创企业正在崛起。
入选理由：ASML的EUV光刻机NXE:3600D可打印13纳米特征，成本约3.8亿美元。
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NXE:3600D
ASML推出的高端EUV光刻机，支持13纳米制程。
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2026-05-06 · ASML的EUV光刻机NXE:3600D可打印13纳米特征，成本约3.8亿美元。
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